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제품 상세

ESIS-3000


由于SiWafer生产工艺中Edge/Surface的Chip、Crack、Contamination等缺陷,可能会出现问题。
如此,检测和分类SiWafer的Edge/Surface缺陷成为SiWafer制造工艺中最重要的之一。
WISFAC的ESIS-3000可以自动检测和分类Edge/Surface缺陷。
可以高精密度和可靠性处理Chip、Crack、Sparkle、Stain等缺陷。
还有我们特别设计了相机、照明等,提供Fully Automated Vision Calibration的功能。
这样ESIS-3000可以始终保持最佳状态并运行。

제품 이미지 및 사양

Wafer Diameter 300mm silicon wafer
Wafer Thickness 500 ~ 1,000㎛
Wafer Surface DSP, EPI, CVD
Edge Inspection Judgement (OK / NG), Classification, Position
Chip, Fracture, Scratch, Stain, Particle
Notch Inspection Chip, Crack, Scratch, Wheel Mark, Stain
Front side Inspection Crack, Scratch, Stain, Particle
Back side Inspection Crack, Scratch, Stain, Particle, Grind Mark
Chuck Mark, Pin Mark, Halo, etc
PIT Inspection Judgement (OK / NG), Classification, Position
Dimension(mm) 2280(W) x 2760(D) x 2002(H)

제품 상세 이미지 및 추가설명

Detail view