介绍制品 페이지

제품 상세

EIS-3000


WISFAC的EIS-3000是检测12" 硅片Notch和Edge中各种缺陷的设备。
随着半导体的持续小型化,晶片Edge检查对于主导为提高12"硅晶片工艺收率的根本原因分析非常重要。
WISFAC的EIS-3000智能分析12"Si晶圆检测到的缺陷。 EIS-3000可检测到的缺陷类型如下。
检测Chip、Crack、Scratch、Wheelmark、Stain等,提供特殊的校正晶片和自动视觉和动作系统。

제품 이미지 및 사양

Wafer Diameter 300mm silicon wafer
Wafer Thickness 500 ~ 1,000㎛
Edge Inspection Judgement (OK / NG)
Classification, Position
Chip, Fracture, Scratch, Stain, Particle
Notch Inspection Chip, Crack, Scratch, Wheel Mark, Stain
Detected Information Types of defects
Rotating coordinate from Origin
Size of defects
Throughput 90 wfr/h
Dimension 1670㎜(W) x 2440㎜(D) x 2002㎜(H)

제품 상세 이미지 및 추가설명

Detail view